檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="射頻電漿化學氣相沉積"
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本研究係在以較大面積(20×20 cm2)之射頻電漿輔助化學氣相沉積系統中,通入矽甲烷原料以不同製程條件於單晶矽表面沉積氫化非晶矽形成異質接合結構。研究重點在探究在此一沉積系統中氫化晶矽的鍍…
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本研究係用射頻電漿系統沉積氫化非晶矽薄膜,調變製程重要參數如氫氣稀釋比、基材溫度、工作壓力以及電極間距等,藉由傅立葉轉換紅外光光譜儀(FT-IR)以及紫外光/可見光光譜儀(UV-VIS)等分析方法,…